DHM測(cè)量表面三維樣貌，單一響應(yīng)，無(wú)需掃描機(jī)制。無(wú)與倫比的快速采集，相機(jī)速度達(dá)1000fps允許：

可變形樣品的3D動(dòng)態(tài)研究

常規(guī)檢查與高生產(chǎn)率

短余輝熒光屏及大型表面的分析

捕捉生產(chǎn)線的三維地貌

同步DHM 可選頻閃單元，測(cè)量MEMS裝置的激勵(lì)信號(hào)。這一獨(dú)特?cái)?shù)據(jù)分析提供：

三維地貌的時(shí)序

共振頻率和響應(yīng)

振動(dòng)振幅平面外分辨率可達(dá)5pm,平面內(nèi)可達(dá)1nm

表征復(fù)雜運(yùn)動(dòng)和樣品

測(cè)量可控制環(huán)境條件

透明模式的地貌測(cè)量

DHM獨(dú)特的光學(xué)配置允許用戶(hù)測(cè)量最佳光學(xué)質(zhì)量指標(biāo)：

通過(guò)玻璃和浸沒(méi)液體

內(nèi)部環(huán)境和真空室，控制溫度，濕度，壓強(qiáng)，氣體成分。

可選DHM反射式測(cè)量法分析軟件允許以下測(cè)量：

透明結(jié)構(gòu)的地形

厚度和折射率，多層結(jié)構(gòu)的厚度值

從10nm到幾十微米

柔軟材料和液體的地形

DHM型號(hào)

R1000

R2100

R2200

光源數(shù)量

1

2

3

操作波長(zhǎng)（±0.1nm）

666nm

794nm

666 nm, 794 nm, 680 nm

激光波長(zhǎng)穩(wěn)定性

0.01 nm / °C at 666

樣品臺(tái)

手動(dòng)或自動(dòng)XYZ平臺(tái)，行程300 mm x 300 mm x 38 mm

物鏡

放大倍數(shù)1.25x到100 x，標(biāo)準(zhǔn)，高數(shù)值孔徑，長(zhǎng)工作距離，水/油浸物鏡

物鏡轉(zhuǎn)輪

六孔轉(zhuǎn)盤(pán)

計(jì)算機(jī)

DELL工作站，最新多核Intel處理器，高性能圖像卡，配置最小21英寸顯示屏及鼠標(biāo)，

軟件

基于C++和.NET的Koala軟件，額外可選軟件模塊可用于先進(jìn)分析

數(shù)據(jù)兼容性

測(cè)量數(shù)據(jù)記錄在二進(jìn)制表格，可導(dǎo)出.txt格式，記錄和重建圖像可導(dǎo)出.tif格式或.txt數(shù)組

測(cè)量模式

666nm單波長(zhǎng)

合成短波長(zhǎng)4.2um

合成長(zhǎng)波長(zhǎng)24um

DHM型號(hào)

R1000，R2100，R2200

R2100，R2200

R2200

精度[nm]

0.15  

0.15   / 3.0 *

20

垂直分辨率[nm]

0.30

0.30   / 6.0 *

40

重復(fù)性[nm]

0.01

0.01   / 0.1 *

0.5

垂直測(cè)量范圍

up   to 200 μm

up   to 200 μm

up   to 200 μm

銳利邊緣最大臺(tái)階高度

up   to 333 nm

up   to 2.1 μm

up   to 12 μm

表面類(lèi)型

光滑表面

復(fù)雜，非連續(xù)表面

復(fù)雜非連續(xù)表面

垂直校準(zhǔn)

取決于干涉濾光片，±0.1 nm

響應(yīng)時(shí)間

標(biāo)準(zhǔn)500us,10us(可選)

響應(yīng)速度

標(biāo)準(zhǔn)30幀（1024*1024像素），可選達(dá)1000幀

重建速率

高達(dá)25幀1024*1024像素全息圖（依賴(lài)于數(shù)據(jù)分析）（可選60幀）

水平分辨率

取決于物鏡，低至300nm

視野

取決于物鏡，從66um x66um到5um x5um范圍

工作距離

取決于物鏡，從0.3到18 mm

數(shù)字對(duì)焦

取決于物鏡，高達(dá)50 x景深

最小樣品反射率

低于1%

樣品照明

低至1 μW/cm2

頻閃裝置

兼容單一，合成短波長(zhǎng)

輸入電壓

85-260   VAC – 50/60 Hz

電源要求

最大250W

尺寸重量

尺寸

600   x 600 x 800 mm

重量

48kg